图书介绍
集成电路工程基础2025|PDF|Epub|mobi|kindle电子书版本百度云盘下载

- (美)汉密尔顿(D.J.Hamilton),(美)霍尔华(W.G.Howard)著;华南工学院《集成电路工程基础》翻译组译 著
- 出版社: 北京:国防工业出版社
- ISBN:15034·2294
- 出版时间:1982
- 标注页数:404页
- 文件大小:15MB
- 文件页数:414页
- 主题词:
PDF下载
下载说明
集成电路工程基础PDF格式电子书版下载
下载的文件为RAR压缩包。需要使用解压软件进行解压得到PDF格式图书。建议使用BT下载工具Free Download Manager进行下载,简称FDM(免费,没有广告,支持多平台)。本站资源全部打包为BT种子。所以需要使用专业的BT下载软件进行下载。如BitComet qBittorrent uTorrent等BT下载工具。迅雷目前由于本站不是热门资源。不推荐使用!后期资源热门了。安装了迅雷也可以迅雷进行下载!
(文件页数 要大于 标注页数,上中下等多册电子书除外)
注意:本站所有压缩包均有解压码: 点击下载压缩包解压工具
图书目录
目录1
第一章 基本制造工艺和版图设计基础1
1-1 引言1
工艺1
经济性与生产1
可靠性与性能1
元件不可调1
元件的匹配1
设计者的任务1
1-2 基本制造流程2
1-3 光刻5
1-4 版图设计基础8
采用反向偏置的pn结隔离8
MOS电容器的图形设计9
扩散电阻器的图形设计12
npn晶体管的图形设计15
1-5 版图设计原则17
1-6 连线的交叉19
2-1 一级扩散理论23
第二章 与扩散有关的工艺23
2-2 杂质原子在硅中的扩散24
预淀积26
恒定本体浓度的扩散27
主扩散28
逐步近似29
δ函数近似30
扩散系数的变化32
发射结和集电结的位置34
横向扩散35
外扩散36
工艺变量的敏感度36
2-3 扩散结果的测定37
结深的测量37
薄层电阻的测量38
欧文曲线38
2-4 氧化41
氧化层的生长对硅片表面的影响44
用二氧化硅作杂质扩散的掩蔽46
2-5 硅的外延生长48
氧化物的生长对杂质再分布的影响48
晶体缺陷49
用四氯化硅生长外延层50
气体混合物对生长速率的影响52
外延层的掺杂53
外延生长期间杂质的扩散53
第三章 其它工艺方法57
3-1 隔离方法57
等平面Ⅱ工艺57
垂直各向异性腐蚀工艺59
莫托罗拉多相工艺60
介质隔离工艺60
3-2 其它扩散方法61
掺杂氧化物扩散61
涂源扩散62
离子注入技术62
3-3 薄膜元件65
薄膜电阻器65
薄膜电容器66
3-4 互连67
常规铝互连工艺68
梁式引线互连70
焊料凸焊点互连70
第四章 无源元件及其寄生效应73
4-1 MOS电容器73
击穿电压75
MOS电容器的寄生效应76
4-2 互连77
4-4 螺旋线电感器80
4-3 管座寄生效应80
4-5 薄膜电阻器82
4-6 集成pn结84
耗尽层85
耗尽层近似的应用85
利用劳伦斯-沃纳曲线计算扩散集电结88
pn结电容器的设计90
pn结的击穿电压91
其它pn结92
用计算机计算一般的杂质分布93
耗尽层与结深测量的关系95
pn结电容器的寄生效应95
4-7 扩散电阻器和外延层电阻器96
薄层电阻97
侧壁电导99
集电区电阻器101
发射区电阻器102
寄生电容102
电阻器偏压的影响103
有效薄层电阻105
4-8 沟道电阻器105
寄生电容106
偏压的影响106
压变电阻器107
4-9 单片电路中各种电阻器的比较107
4-10 扩散电阻器的模型108
第五章 集成结型场效应晶体管112
5-1 引言112
5-2 集成n沟结型场效应晶体管115
5-3 双扩散结型场效应晶体管118
5-4 集成结型场效应晶体管的设计121
结型场效应晶体管与沟道电阻器的关系123
5-5 结型场效应晶体管的小信号模型123
第六章 金属-氧化物-半导体场126
效应晶体管126
6-1 表面空间电荷层126
6-2 MOS电容器128
开启电压VT129
6-3 功函数差和氧化层电荷对开启130
电压的影响130
6-4 MOS晶体管133
饱和区的电导136
恒定QB近似的后果136
衬底偏压的影响136
6-5 集成MOS场效应器件136
互补MOS器件(CMOS)139
6-6 其它工艺方法139
金属-氮化物-氧化物-半导体器件(MNOS)139
栅自对准工艺140
离子注入技术140
硅栅结构141
利用难熔金属作栅极的MOS晶体管(RMOS)142
自对准厚氧化物结构(SATO)143
6-7 MOS晶体管的等效电路143
第七章 双极型晶体管和二极管146
7-1 引言146
7-2 理想化的本征结构146
7-3 寄生效应150
集电区电阻150
电容151
基区电阻151
7-4 集成晶体管的大信号模型和小152
信号模型152
大信号模型152
小信号模型153
7-5 物理性能与电特性的关系155
基区电场156
基区输运系数156
发射效率158
击穿电压160
雪崩倍增对伏安特性的影响161
基区宽度调变162
包含基区宽度调变效应的四层模型163
空间电荷层的复合165
根据工艺参量设计晶体管的定性讨论165
7-6 大注入和大电流运用166
大注入166
电流集边效应168
获得最大β的设计169
纵向pnp晶体管171
7-7 pnp晶体管171
三重扩散pnp晶体管171
横向pnp晶体管173
横向pnp晶体管的一级分析174
频率效应176
复合pnp晶体管178
场助横向pnp晶体管178
多集电极横向pnp晶体管179
用四层模型表示横向pnp晶体管180
7-8 二极管181
横向pnp器件的小信号性能181
7-9 肖特基势垒二极管185
第八章 集成电路的热效应188
8-1 硅体内性质的热特性188
载流子迁移率188
电导率189
本征载流子浓度和禁带宽度190
寿命190
电阻器191
8-2 集成器件的电-热模型191
pn结电容器194
二极管195
击穿电压195
本征npn晶体管196
横向pnp晶体管197
8-3 电-热模型的应用198
8-4 等温电路芯片201
8-5 温度稳定的基座202
温度稳定基座的设计203
参考温度和传感器的设计204
8-6 横向的温度变化205
第九章 基本线性集成电路208
9-1 晶体管模型208
偏置模型209
小信号模型209
密勒倍增效应211
9-2 偏置电路212
维德勒电路213
小电流电流源214
并联电流源215
电流源的输出电导216
VD倍增电路217
饱和晶体管218
电平位移级219
9-3 简单的放大级220
改善增益-带宽乘积221
共集共基电路223
9-4 差分放大器225
一级分析225
以射极跟随器输入的差分放大器228
差分输入电阻228
9-5 有源负载232
超增益晶体管232
10-6 电流差分运算放大器234
9-6 吉尔伯特放大单元235
9-7 乘法器237
第十章 集成运算放大器244
10-1 通用差分输入级245
共模反馈247
10-2 一种新颖的差分输入到单端输出248
转换电路248
10-3 带有源负载的输入级251
超增益晶体管的使用255
10-4 小输入偏流的输入级255
偏置补偿257
10-5 输出级259
MC1530的输出级259
μA741的输出级262
MC1556的输出级264
补偿267
10-7 运算放大器的频率特性267
转换速率极限268
改进转换速率269
第十一章 线性集成电路的应用272
11-1 微功耗电路272
偏置272
微功耗放大单元电路273
11-2 大功耗电路274
11-3 比较器279
11-4 RC有源滤波器282
11-5 甚低频滤波器285
11-6 用于测试运算放大器的运算放大器288
11-7 数字-模拟转换290
终端电路292
电流驱动电路294
11-8 稳压器296
第十二章 饱和型逻辑电路基础300
12-1 饱和型倒相器的直流特性300
饱和状态300
截止状态301
12-2 倒相器的瞬态特性302
延迟时间tD303
瞬变时间t′304
存贮时间tS306
瞬变时间t″307
12-3 逻辑运算309
12-4 二极管-晶体管逻辑(DTL)312
设计考虑313
版图设计考虑314
功耗314
DTL基本电路的改进315
12-5 晶体管-晶体管逻辑(TTL)317
寄生pnp效应318
TTL的直流扇出319
负载的分配问题321
TTL电路的版图设计322
12-6 TTL基本电路的改进322
其它逻辑运算324
12-7 电阻-晶体管逻辑(RTL)325
TTL门速度的提高325
RTL电路的版图设计327
12-8 并合晶体管逻辑(MTL)328
12-9 逻辑电路的端特性331
传输特性曲线的性质331
阈点334
过渡宽度334
抗扰度335
12-10 饱和型逻辑电路的比较335
噪声灵敏度335
噪声容限335
第十三章 非饱和型逻辑电路339
13-1 反馈箝位电路340
13-2 利用晶体管控制饱和342
13-3 发射极耦合逻辑(ECL)343
发射极偏置电阻的利用347
ECL电路的设计考虑349
13-4 ECL电路的非线性分析350
单位增益点与过渡宽度352
ECL电路的版图设计353
13-5 ECL电路的一级瞬态分析353
噪声容限353
扇入对传输特性曲线的影响353
抗扰度353
开启延迟时间tD1356
开启瞬变时间t'357
输出下降时间357
关断瞬变时间toff357
第十四章 基本MOS逻辑电路359
14-1 MOS倒相器359
14-2 饱和负载倒相器362
倒相器的传输函数364
工作点365
单位增益点和噪声容限366
14-3 非饱和负载倒相器367
14-4 耗尽型负载倒相器368
传输特性369
14-5 互补倒相器(CMOS)370
传输特性371
饱和负载倒相器373
14-6 功耗373
非饱和负载倒相器374
耗尽型负载倒相器374
14-7 倒相器的瞬态响应374
饱和负载倒相器375
CMOS倒相器376
保护电路378
静态逻辑电路378
14-8 逻辑电路378
CMOS倒相器的功耗378
传输电路383
动态逻辑电路384
第十五章 数字集成电路的应用387
15-1 连线-逻辑扩展法387
15-2 加法器389
15-3 触发器391
主从触发器393
15-4 移位寄存器395
15-5 存贮器398
随机存取存贮器399
热门推荐
- 1307964.html
- 3747537.html
- 1223548.html
- 1627463.html
- 3652664.html
- 1990725.html
- 1384466.html
- 2340258.html
- 3172146.html
- 1691019.html
- http://www.ickdjs.cc/book_3416445.html
- http://www.ickdjs.cc/book_287863.html
- http://www.ickdjs.cc/book_2705068.html
- http://www.ickdjs.cc/book_1415425.html
- http://www.ickdjs.cc/book_598824.html
- http://www.ickdjs.cc/book_1985579.html
- http://www.ickdjs.cc/book_438439.html
- http://www.ickdjs.cc/book_1857426.html
- http://www.ickdjs.cc/book_3572421.html
- http://www.ickdjs.cc/book_989789.html